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當前位置:首頁產(chǎn)品中心顯微測量儀共聚焦顯微鏡VT6100轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡
轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡

產(chǎn)品簡介

中圖儀器VT6000轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等,測量表面物理形貌,進行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表面粗糙度等。

產(chǎn)品型號:VT6100
更新時間:2024-07-02
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:838
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中圖儀器VT6000轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等,測量表面物理形貌,進行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表面粗糙度等。

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡

產(chǎn)品功能

(1)設備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;

(2)設備具備自動拼接功能,能夠快速實現(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測量;

(3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數(shù)再進行測量,軟件自動統(tǒng)計測量數(shù)據(jù)并提供數(shù)據(jù)報表導出功能,即可快速實現(xiàn)批量測量功能;

(4)設備具備調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;

(5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

(6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現(xiàn)批量數(shù)據(jù)文件的快速分析功能;

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡


VT6000轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領域中??蓽y各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國內(nèi)外標準共計300余種2D、3D參數(shù)作為評價標準。


應用領域

對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。

應用范例:

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡

應用場景

1、鐳射槽

測量晶圓上激光鐳射槽的深度:半導體后道制造中,在將晶圓分割成一片片的小芯片前,需要對晶圓進行橫縱方向的切割,為確保減少切割引發(fā)的崩邊損失,會先采用激光切割機在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導槽,在工藝上需要對引導槽的槽型深寬尺寸進行檢測。

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡

2、光伏

在太陽能電池制作工程中,柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導電能力,直接影響著太陽能電池的性能。共聚焦顯微鏡可以對柵線進行快速檢測。此外,太陽能電池制作過程中,制絨作為關(guān)鍵核心工藝,金字塔結(jié)構(gòu)的質(zhì)量影像減反射焰光效果,是光電轉(zhuǎn)換效率的重要決定因素。共聚焦顯微鏡具有納米級別的縱向分辨能力,能夠?qū)﹄姵匕褰q面這種表面反射率低且形貌復雜的樣品進行三維形貌重建。

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡

3、其他

轉(zhuǎn)盤共聚焦激光顯微鏡


部分技術(shù)指標

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學系統(tǒng)
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm
高度測量
寬度測量
XY位移平臺負載10kg
控制方式電動
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動
光源白光LED

懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯(lián)系中圖儀器咨詢。


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